China usa patentes para frenar el avance tecnológico de ASML en litografía UVE Resumen y por qué importa En marzo de 2026 se ha detectado un volumen inusualmente elevado de solicitudes de patentes relacionadas con equipos de fotolitografía de ultravioleta extremo (UVE/EUV) presentadas por instituciones y empresas chinas como la Universidad Tsinghua, Huawei, SMEE y…